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石墨炔的物理性质
 
[时间]2020-7-2 8:15:53 浏览:116 次
石墨炔是由1,3-二炔键将苯环共轭连接形成二维平面网络结构的全碳分子,具有丰富的碳化学键,大的共轭体系、宽面间距、优良的化学稳定性和半导体性能。石墨炔单晶薄膜具有较高的有序度和较低的缺陷,薄膜电导率为:10−3-10−4 S m-1。石墨炔薄膜的层间距为0.365纳米,少数层石墨炔薄膜厚度可以控制在15~500纳米之间。随着石墨炔厚度的减小,其电导率逐渐增加。迁移率随着石墨炔薄膜厚度的增加逐渐下降,厚度为22纳米的石墨炔薄膜的迁移率可达到100~500 cm2·V-1·S-1。
将石墨炔粉末与P3HT在溶剂中混合,可获得石墨炔/P3HT薄膜。通过微区Raman光谱分析发现,在P3HT/石墨炔的复合薄膜中,石墨炔的sp2碳的G带峰位置发生了蓝移,而双炔特征峰的位置发生了红移,说明石墨炔特殊的分子结构和电子结构不仅具有供电子特性,而且也具有吸电子特性。
 
 
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